1.不銹鋼閥門酸洗鈍化的預(yù)處理。

如果不銹鋼工件酸洗鈍化前有表面污垢，應(yīng)機(jī)械清洗，然后去除油脂和脂肪。如果酸洗液和鈍化液不能去除油，表面的油會(huì)影響酸洗鈍化的質(zhì)量，因此不能省略油脂去除，可以使用堿液、乳化劑、有機(jī)溶劑和蒸汽。

2.控制酸洗液和洗滌水中的Cl-。

一些不銹鋼酸洗液或酸洗膏以添加鹽酸、高氯酸、三氯化鐵、氯化鈉等含氯離子的侵蝕介質(zhì)為主去除表面氧化層的主要?jiǎng)┗蛱砑觿３椭猓纫蚁┑群扔袡C(jī)溶劑不適合防止應(yīng)力腐蝕和破裂。此外，工業(yè)水可用于初步?jīng)_洗水，但鹵化物含量應(yīng)嚴(yán)格控制在最終清洗水中。通常使用去離子水。例如，石化奧氏體不銹鋼壓力容器的水壓試驗(yàn)水控制C1-含量不超過(guò)25mg/L。如果不能滿足這一要求，可在水中加入硝酸鈉進(jìn)行處理，求。如果C1-含量超標(biāo)，會(huì)破壞不銹鋼鈍化膜，這是點(diǎn)蝕、縫隙腐蝕、應(yīng)力腐蝕和破裂的根源。

3.酸洗鈍化操作中的工藝控制。

硝酸溶液有效去除游離鐵等金屬污垢，但對(duì)去除氧化鐵皮、厚腐蝕產(chǎn)物、回火膜等無(wú)效。一般應(yīng)使用HNO3+HF溶液。為了方便和安全操作，可以用氟化物代替HF。單獨(dú)的HNO3溶液不能添加緩蝕劑，但HNO3+HF酸洗時(shí)需要添加Lan-826。使用HNO3+HF酸洗，為防止腐蝕，濃度應(yīng)保持5:1的比例。溫度應(yīng)低于49℃。如果太高，HF會(huì)揮發(fā)。

對(duì)于鈍化液，HNO3應(yīng)控制在20%-50%之間。根據(jù)電化學(xué)測(cè)試，處理HNO3濃度小于20%的鈍化膜質(zhì)量不穩(wěn)定，容易產(chǎn)生點(diǎn)蝕，但HNO3濃度不應(yīng)大于50%，以防止過(guò)度鈍化。除油酸洗鈍化采用一步法處理。雖然操作簡(jiǎn)單，節(jié)省工時(shí)，但酸洗鈍化液（軟膏）中會(huì)有侵蝕性HF，因此其最終保護(hù)膜質(zhì)量不如多步法好。

酸洗過(guò)程中，酸濃度、溫度和接觸時(shí)間允許在一定范圍內(nèi)調(diào)整。隨著酸洗液使用時(shí)間的增加，必須注意酸濃度和金屬離子濃度的變化，避免過(guò)酸洗，鈦離子濃度應(yīng)小于2%，否則會(huì)導(dǎo)致嚴(yán)重的點(diǎn)蝕。一般來(lái)說(shuō)，提高酸洗溫度會(huì)加速和改善清洗效果，但也可能增加表面污染或損壞的風(fēng)險(xiǎn)。

4.控制不銹鋼敏化條件下的酸洗。

一些不銹鋼由于熱處理或焊接不良而敏化。HNO3+HF酸洗可能會(huì)產(chǎn)生晶間腐蝕。晶間腐蝕引起的裂在運(yùn)行、清洗或后續(xù)加工過(guò)程中可濃縮鹵化物，導(dǎo)致應(yīng)力腐蝕。這些敏化不銹鋼一般不宜用HNO3+HF溶液去鱗或酸洗。如果焊后必須進(jìn)行這種酸洗，應(yīng)使用超低碳或穩(wěn)定的不銹鋼。

5.酸洗不銹鋼和碳鋼組件。

對(duì)于不銹鋼和碳鋼組合件(如換熱器中的不銹鋼管、管板和碳鋼外殼)，如果使用HNO3或HNO3+HF，酸洗鈍化會(huì)嚴(yán)重腐蝕碳鋼。此時(shí)，應(yīng)添加適當(dāng)?shù)木徫g劑，如Lan-826。當(dāng)不銹鋼和碳鋼組合件處于敏化狀態(tài)，不能用HNO3+HF酸洗時(shí)，可使用羥基乙酸(2%)+甲酸(2%)+緩蝕劑，溫度93℃，時(shí)間6小時(shí)或EDTA銨中性溶液+緩蝕劑，溫度121℃，時(shí)間6小時(shí)，然后用熱水沖洗浸泡在10mg/L氫氧化銨+100mg/L聯(lián)氨中。

6.酸洗鈍化后處理。

酸洗和水洗后，不銹鋼工件可用含10%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))NaOH+4%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))KMno4的堿1生高錳酸鹽溶液浸泡在71~82℃中5~60分鐘，去除酸洗殘?jiān)缓笥盟畯氐讻_洗干燥。酸洗鈍化后不銹鋼表面出現(xiàn)花斑或污漬，可用新鮮鈍化液或高濃度硝酸擦洗消除。酸洗鈍化的不銹鋼設(shè)備或部件應(yīng)注意保護(hù)，可用聚乙烯膜覆蓋或包扎，避免異金屬與非金屬接觸。

酸性和鈍化廢液的處理應(yīng)符合國(guó)家環(huán)保排放規(guī)定。含氟廢水可加石灰乳或氯化鈣處理。鈍化液應(yīng)盡可能不使用重鉻酸鹽。如果含有鉻廢水，可以用硫酸亞鐵還原。

酸洗可能會(huì)導(dǎo)致馬氏體不銹鋼氫脆，如有必要，可通過(guò)熱處理去除氧氣(加熱至200℃保溫一段時(shí)間)。